西北工業(yè)大學(xué)分析測(cè)試中心系列講座（第十三期）
一、報(bào)告題目：新型高效率聚焦離子/電子雙束電鏡在材料領(lǐng)域應(yīng)用介紹
二、報(bào)告人：韓偉（賽默飛世爾科技公司 首席產(chǎn)品專(zhuān)家）
三、講座時(shí)間：2019年6月14日（星期五），14:30-16:30
四、講座地點(diǎn)：友誼校區(qū)研究生西館XA309
五、報(bào)告摘要：
1.（無(wú)Ga污染）薄/厚樣品制備與加工
在傳統(tǒng)雙束的加工之中有一個(gè)缺點(diǎn)就是Ga離子的污染，Ga離子以高能量轟擊樣品表面時(shí)，可以鉆入樣品表層一定深度并停留在樣品內(nèi)部，這些問(wèn)題當(dāng)我們采用Xe等離子源都可以避免，因?yàn)?/span>Xe離子比Ga離子更大，同樣加速電壓下穿深度更小，因而所制備的薄樣品上非晶層去也更少。透惰性氣體性能穩(wěn)定，不易與其他元素產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。不容易生成化合物駐留在樣品表層內(nèi)部。
2. 大尺寸樣品加工與制備
根據(jù)應(yīng)用表現(xiàn)Ga離子加工區(qū)域通常不大于50微米，更大面積/體積的加工會(huì)帶來(lái)時(shí)間成本的上升。而Xe等離子束突破了這些方面的極限，因?yàn)?/span>Xe離子束束流可達(dá)2個(gè)微安以上，而Ga離子束束流通常在60nA以下；另外從濺射效率上對(duì)大多數(shù)樣品Xe離子的濺射效率更高。因而從總體加工效率上看Xe離子束可達(dá)Ga離子束的20-100倍。
Xe等離子作為一直全新的離子源為微納尺度范圍加工提供不可替代的性能，加工范圍最大可達(dá)1mm尺度，打通了從宏觀(guān)到微觀(guān)加工的橋梁，必將成為科研和工業(yè)領(lǐng)域的一個(gè)利器。
本次報(bào)告還將介紹在雙束其他方面的最新進(jìn)展，如三維重構(gòu)及自動(dòng)化TEM樣品制備等等。
六、報(bào)告人簡(jiǎn)介：
韓偉，自2017年起擔(dān)任首席產(chǎn)品專(zhuān)家。他于2010年加入賽默飛世爾科技中國(guó)，擔(dān)任高級(jí)應(yīng)用工程師。2010年之前，韓偉曾擔(dān)任Techcomp中國(guó)EM產(chǎn)品部門(mén)的產(chǎn)品經(jīng)理。韓偉在北京工業(yè)大學(xué)獲得金屬材料碩士學(xué)位（1998年）。在德國(guó)克勞斯塔爾技術(shù)大學(xué)的物理學(xué)博士學(xué)位（2004年）。
歡迎校內(nèi)外師生參加與交流！
